Willkommen bei PLASUS
Hochwertige Plasmaspektroskopie
und Softwarelösungen
PLASUS ist führender Hersteller von emissionsspektroskopischen Plasmamonitorsystemen. Seit über 10 Jahren entwickeln wir Komplettlösungen für Industrieanlagen und den F&E-Bereich zum Plasmamonitoring, zur Prozessoptimierung, zur Prozesskontrolle, zur Prozessregelung, zur Qualitätskontrolle sowie zur spektroskopischen Plasmaanalyse.
PSE 2010 Austellung
30. August 2010
Besuchen Sie uns auf der PSE 2010
Auf der PSE 2010 Konferenz zeigen wir unsere neuesten Produkte für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle:
- Hochauflösendes Plasmaemissionsmonitorsystem
- Beschichtungsschutz für KF/CF Fensterflansche
- Vakuumoptik aus reinem Aluminium
Die PSE 2010 Konferenz findet vom 13. bis 17. September in Garmisch-Partenkirchen statt. Wir würden uns freuen Sie auf unserem Stand begrüßen zu können.
15. Januar 2010
Neues SpecLine Support Center in Asien
Wir freuen uns die Eröffung unseres neuen SpecLine Support Center in Taiwan bekannt geben zu können. Das Support Center steht unseren asiatischen Kunden ab sofort kompetent für alle Fragen rund um unsere spektroskopische Analysesoftware zur Verfügung:
Applied Optivac Technology, Inc.
11F, 286-10, Sec.1, Nan-Kan Road
Lu-Chu Hsiang, Taoyuan 33859
Taiwan, R.O.C.
Phone: +886-3-3120505
Fax: +886-3-3220505
Um die Qualität unserer SpecLine Software in Zukunft zu bündeln und sichern, wird SpecLine in Asien ab dem 01.01.2010 nur noch über unser SpecLine Support Center in Taiwan erhältlich sein.
24.08.2009
Neue Telefonnummern und Postadresse
PLASUS ist im August von Königsbrunn nach Kissing (bei Augsburg) in größere Geschäftsräume umgezogen. Sowohl die Postadresse als auch die Telefonnummern haben sich geändert:
PLASUS
Trathstraße 5 B
D-86438 Kissing
Tel.: +49 (0) 8233 735378-0
Fax : +49 (0) 8233 735378-9
Bitte aktualisieren Sie Ihre Kontaktdaten.
4. Mai 2009
Hochauflösendes Plasmamonitorsystem
Das neue entwickelte EMICON HR System ist ein spektral hochauflösendes Plasmamonitorsystem und weltweit einzigartig: Es vereint einen weiten Spektralbereich von 200-860 nm mit einer 10fach besseren spektralen Auflösung zu den Standardsystemen. Dadurch ist jetzt eine Trennung von benachbarten Atomlinien und von Vibrations- und Rotationslinien in Molekülbanden möglich und es eröffnen sich ganz neue Möglichkeiten für die Plasmaanalyse, das Plasmamonitoring, die Qualitätssicherung und die Prozessregelung. Und alles in gewohnt kompakter, robuster und industrietauglicher Bauweise....
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05. Januar 2009
Neue EMICON MC Serie
Als Weiterentwicklung unserer Plasmamonitorsysteme sind ab sofort die neuen EMICON MC Systeme verfügbar. Diese neuen Systeme zeichnen sich unter anderem durch einen erweiterten Spektralbereich von 200-1100 nm und durch eine schnellere Messfrequenz bei mehrkanaligen Systemen durch echtes Multitasking aus. Der gesamte Datentransfer wird jetzt über eine USB 2.0 Schnittstelle abgewickelt, sodass auch mit einem Notebook Steuerungs- und Regelungsaufgaben realisiert werden können. Die neue EMICON 3.1 Software bietet umfangreiche neue und erweiterte Funktionen für das Plasmamonitoring, für die Spektrenauswertung und für die Prozessregelung.
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