Plasmamonitor- und
Prozesskontrollsysteme

Prozesskontrolle ist wesentlich in industriellen Plasmaanwendungen, um Zuverlässigkeit zusammen mit hoher Qualität für den Prozess sicherzustellen. Für diese Aufgabe ist das spektroskopische Plasmamonitoring hervorragend geeignet, da diese Technik das Plasma nicht beeinflusst und mehrere Plasmateilchen gleichzeitig in-situ beobachtet werden können. Unsere schlüsselfertigen PLASUS EMICON Systeme bieten alle Möglichkeiten Ihren Plasmaprozess zu analysieren, zu optimieren und zu regeln.

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