EMICON MC

Die EMICON MC Systeme eignen sich für fast jede Anwendung in der Plasmatechnologie zur Plasmaanalyse, zum Plasmamonitoring, zur Prozessoptimierung, zur Qualitätssicherung und zur Prozessregelung. Die schlüsselfertigen EMICON MC Systeme sind mit allen notwendigen Eigenschaften ausgerüstet, um typische Prozessplasmen zu beobachten und in bestehende Anlagensteuerungen integriert werden zu können.

Mit einem Spektralbereich von 200-1100 nm decken die Spektrometereinheiten des EMICON MC Systems den UV-VIS-NIR Bereich ab. Das EMICON MC System kann mit bis zu acht Spektrometerkanälen ausgestattet werden bei gleicher Geschwindigkeitsperformance bezüglich Datenerfassung und Datentransfer. Der gesamte Datentransfer wird jetzt über eine USB 2.0 Schnittstelle abgewickelt, sodass auch mit einem Notebook Steuerungs- und Regelungsaufgaben realisiert werden können.
Die EMICON Software bietet umfangreiche Funktionen für das Plasmamonitoring, für die Plasmaanalyse und für die Prozessregelung: Vorlagenmanager, Spektrenarithmetik in Echtzeit, Wiedergabe von gespeicherten Messdaten, automatische Erfassung der Regelkurve und vieles mehr.

EMICON MC Eigenschaften:EMICON MC in Kürze:




Anwendungen:

  • Dünnschichttechnologien (PVD, PECVD)
  • Plasmaätzen, Endpunktkontrolle
  • Reaktives Magnetronsputtern (Gasfluss- oder Leistungsregelung)
  • Qualitätskontrolle, Fehlererkennung, Plasmadiagnostik