24. September 2018

 

Vollständige Kontrolle von reaktiven Puls- und HIPIMS-Prozessen mit

PLASUS EMICON SA neuester Sensorentwicklung

 

 

In Puls- und HIPIMS-Plasmas ist der Ionisationsgrad ein entscheidender Faktor für die Dichte und Härte der Schicht, während die Stöchiometrie der Schicht durch Mischung von Metallteilchen zu Reaktivgasteilchen bestimmt ist. Eine Änderung einer dieser Parameter bewirkt auch immer eine Änderung des anderen Parameters. Um beide Parameter - Ionisationsgrad und Stöchiometrie - gleichzeitig zu regeln, müssen unabhängige Mess- und Regelmethoden kombiniert werden.

 

HIPIMS Module Setup HIPIMS TiO Control

Sensormessanordnung für bipolare HIPIMS Anwendungen Gleichzeitige Regelung von Reaktivgasfluss und Ionisationsgrad.

 

Der neue Puls und HIPIMS Sensor des EMICON SA Systems nimmt die Spannungs- und Stromkurven des Pulses auf und kombiniert die Auswertung der elektrischen Daten mit den Daten aus dem spektroskopischen Plasmamonitoring in einem einzigen System. Die verschiedenen Sensordaten werden in einem gemeinsamen Algorithmus ausgewertet und damit kann eine zuverlässige und stabile Regelung beider Parameter realisiert werden.

 

Eine unabhängige Regelung von Ionisationsgrad und Reaktivgasfluss ist jetzt möglich in reaktiven Puls- und HIPIMS-Prozessen und öffnet die Tür zu vielen neuen Anwendungen in F&E und Industrie.

 

Weitere Informationen finden Sie im PLASUS EMICON SA Pulse & HIPIMS Module Flyer und auf der EMICON SA System Seite.

22. August 2018

 

Vorstellung des neuen EMICON Puls und HIPIMS Moduls auf PSE 2018 Konferenz

 

Auf der PSE 2018 Konferenz in Garmisch-Partenkirchen stellt PLASUS seine neueste Entwicklung für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor: Das neue EMICON Puls und HIPIMS Modul kombiniert das spektroskopische Plasmamonitoring mit der Messung von Pulsspannung und Pulsstrom in einem einzigen Setup zur fortgeschrittenen Prozesskontrolle von reaktiven dichten Prozessplasmen.

 

EMICON pulse and HIPIMS module

 

Erfahren Sie mehr über diese neue und hochinteressante Methode und besuchen Sie diesen Vortrag auf der PSE 2018:

 

Controlling plasma properties of reactive HIPIMS process using novel combined control technique

Session: HiPIMS II

Vortragstermin: 21.09.2018 um 10:35 Uhr (OR2403)

Abstract: Here

 

Wr Sie laden sind auch herzlich ein unseren Gemeinschaftsstand Nr. 34 mit unseren Technologiepartnern in der Industrieausstellung der PSE 2018 Konferenz zu besuchen. Wir stellen dort unsere neuesten Entwicklungen vor und freuen uns, mit Ihnen über mögliche Einsatzmöglichkeiten an Ihrer Anwendung zu diskutieren.
Die Industrieausstellung findet statt am 18. und 19. September. Am Mittwoch, den 19. September, ist der freie Eintritt auch für Nicht-Tagungsteilnehmer möglich!

 

PSE 2018

23. Juni 2016

 

PLASUS feiert 20-jähriges Bestehen mit Jubiläumsfeier

 

Am 23. Juni 2016 feierte PLASUS sein 20-jähriges Firmenjubiläum in seinen Räumlichkeiten in Mering. Als Gäste konnten zahlreiche Kunden, Zulieferer und Distributoren aus dem In- und Ausland begrüßt werden. 

 

Im offiziellen Teil ließ der Firmengründer und Inhaber Dr. Thomas Schütte die Geschichte von PLASUS in Bildern und Worten Revue passieren. Anschließend berichteten Dr. Wünderlich vom Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, Dr. Cord von der SINGULUS AG und Herr Jann von Applied Optivac Technologies Inc., Taiwan in Ihren Vorträgen von interessanten Anwendungsbeispielen der PLASUS Produkte aus den Bereichen Wissenschaft, Produktentwicklung und dem Einsatz im asiatischen Markt. Im Anschluss genossen alle Gäste bei herrlich sonnigem Wetter im Außenbereich Spezialitäten vom Grill, Bier vom Fass und Sake von den japanischen Gästen. 

 

PLASUS bedankt sich bei allen Rednern und Gästen für die gelungenen Feierlichkeiten sowie für die vielen Glückwünsche und Präsente.

 

 20 Jahre Feier Bilderpalette

 

Eine Zusamenfassung der Firmengeschichte finden Sie hier oder als Download.

21. September 2015

 

Stand-alone EMICON SA System für industrielle Produktionslinien

 

Unsere neueste Entwicklung erweitert PLASUS weltweit führende EMICON Serie für das spektroskopische Plasmamonitoring und Prozesskontrolle um die entscheidenden Funktionen für den Einsatz in industriellen Produktionslinien:


  EMICON SA - front view EMICON SA - rear view

 

Merkmale und Funktionen:


- Bis zu 8 Spektrometermodule für die Datenerfassung an verschiedenen Positionen

- Unbegrenzte Anzahl an Wellenlängenkanälen für jede Position

- Erfassung von bis zu 8 externen Spannungssignalen (z.B. Targetspannung, etc.)

- Anspruchsvolle Signalverarbeitung aller Eingänge für zuverlässige Przesskontrolle

- Erweiterter Funktionsumfang für die Endpunktdetektion

- Verbesserte mehrkanalige PID Regelung für Gasfluss, Leistung und Targetspannung

- Einfacher Prozesswechsel durch Auswahl vordefinierter Softwarerezepte

- Integrierte Prozessoreinheit für Stand-Alone Betrieb

- Integriertes Touchpanel für Vorort-Informationen und Einstellungen

- Kommunikation über industrielle Standardschnittsellen (LAN, Profibus, IOs, …)

- Setup and Administration über LAN Verbindung, 3-stufige Benutzerführung

Ihre Vorteile:


- Steigerung der Produktivität durch fortschrittliche Qualitätsüberwachung

- Aufrüstung der Produktionslinie zur Verbesserung der Produktqualität

- Prozessstabilisierung durch simultane PID-Regelung (z.B. Gasfluss & Targetspan.)

- Überwachung und Kompensation der Targeterosion in Sputterapplikationen

- Zuverlässige Endpunktdetektion durch Kombination von Spektral- und ext. Signalen

- Nachrüstung (retrofit) von bestehenden PEMs für verbesserte Produktivität

- Integration als Stand-Alone System in die Anlagensteuerung

 

Gerne lassen wir Ihnen weitere Informationen zukommen. Bitte kontaktieren Sie uns.

09. Februar 2015

 

PLASUS firmiert zur GmbH

 

Zum 15.01.2015 wurde aus PLASUS die PLASUS GmbH.

 

Mit diesem Schritt stellt sich PLASUS optimal für weitere erfolgreiche Jahre auf und schafft beste Voraussetzungen für Wachstum, neue Produkte und zum Umsetzen strategischer Ziele. Für Sie bleibt hinsichtlich der Produkte, der Ansprechpartner und der Preise alles beim Alten, langfristig abgeschlossene Verträge und Projekte werden von der PLASUS GmbH übernommen. Wir werden auch in Zukunft in gewohnter kompetenter und vertrauensvoller Weise mit Ihnen zusammenarbeiten.

 

Allerdings bitten wir Sie alle zukünftigen Aufträge, Projekte und Lieferungen an die PLASUS GmbH zu adressieren. Aktualisieren Sie unsere Kontaktdaten dazu bitte wie folgt:

 

PLASUS GmbH

Geschäftsführer: Dr.-Ing. Thomas Schütte

Lechstraße 9

Amtsgericht Augsburg HRB 29314

D-86415 Mering

USt-Id.-Nr.: DE 815 541 716

 

 

 Tel.: +49 (0)8233 735378-0

 Deutsche Bank AG Augsburg

 Fax: +49 (0)8233 735378-9

 IBAN: DE43 7207 0024 0029 0668 00

 E-Mail: service@plasus.de

 BIC: DEUTDEDB720

 

Wir freuen uns auf eine weiterhin gute Zusammenarbeit,

 

Dr.-Ing. Thomas Schütte

Geschäftsführer der PLASUS GmbH

 

17.05.2013

 

EMICON Systeme mit industriellen Schnittstellen PROFIBUS und LAN

 

Alle EMICON Modelle wurden um die industriellen Schnittstellen PROFIBUS und LAN erweitert und können damit jetzt einfach und problemlos in Industrieapplikationen integriert werden:

 

EMICON Interfaces

 
 

PROFIBUS:

In einem PROFIBUS Netzwerk fungiert das EMICON System als DP Slave und kann über die GSD-Datei direkt in die Anlagensteuerung intergriert werden. Über verschiedene vordefinierte Module können eine Reihe von Systemparametern von der Anlagensteuerung an das EMICON System gesendet und Messgrößen abgefragt werden:

 

  • - Aufnahmeparameter für die Spektrometer- und Monitorkanäle
  • - Rezeptauswahl bei Prozesswechsel
  • - Regelparameter für z.B. Endpunktdetektion und PID-Regelung
  • - gemessene Monitordaten von ausgewählten Monitorspuren
  • - Eingangs- und Ausgangssignale der digitalen Anschlüsse
  • - Ausgangsspannungen für die PID-Regelungen
  • - ...

 

Durch das standardisierte PROFIBUS Protokoll ist eine einfache Integration des EMICON Systems in die Gesamtanlagensteuerung problemlos möglich und eine sichere Prozessführung gewährleistet.

 

 

LAN:

Für die LAN Schnittstelle wird eine API zur Verfügung gestellt: Die Funktionen der API sind in einer DLL gekapselt und können über eine Header-Datei in unterschiedliche Programmumgebungen integriert werden, wie z.B. C++, C#, Delphi oder LabView.

Die LAN Schnittestelle bietet fast uneingeschränkten Zugriff auf die Funktionalität und die Messdaten des EMICON Systems:

 

  • - Aufnahmeparameter für die Spektrometer- und Monitorkanäle
  • - Rezeptauswahl bei Prozesswechsel
  • - Regelparameter für z.B. Endpunktdetektion oder PID-Regelung
  • - gemessene Spektraldaten aller Spektromtermodule
  • - gemessene Monitordaten aller Monitorspuren
  • - Ausgangssignale der digitalen Anschlüsse
  • - Ausgangsspannungen für die PID-Regelungen
  • - ...

 

Eine 3-stufige Benutzerverwaltung gewährleistet die sichere und anwenderspezifische Ansteuerung des EMICON Systems.

 

Die LAN Schnittstelle des EMICON Systems ist Multi-User fähig, sodass sich verschiedene Nutzer von unterschiedlichen Orten mit dem EMICON System verbinden können, um z.B. Messdaten in Echzeit abzufragen.   

 

 

Sowohl die PROFIBUS als auch dei LAN Schittstelle sind optionale Add-Ons zum EMICON System. Die beiden Schnittstellen können auch parallel an einem EMICON System betrieben werden.

 

Zu den EMICON Systemen