PLASUS

Spektroskopische Plasmamonitorsysteme
Prozesskontrolle für Industrie und F&E

PLASUS ist führender Hersteller von spektroskopischen Plasmamonitor- und Prozesskontrollsystemen. Seit über 20 Jahren entwickeln wir Komplettlösungen für Industrieanlagen und den F&E-Bereich zum Plasmamonitoring, zur Prozesskontrolle, zur Prozessregelung, zur Prozessoptimierung, zur Qualitätskontrolle sowie zur spektroskopischen Plasmaanalyse.

Nutzen Sie unsere langjährige Erfahrung und führendes Knowhow für Ihre Anwendung - wir beraten Sie gerne und umfassend!

PLASUS aktuell:

27. März 2020

PLASUS ist auch während der Einschränkungen durch die Corona Pandemie erreichbar

Die Einschränkungen im öffentlichen und privaten Leben durch die Corona Pandemie (COVID-19) sind erheblich.

Trotzdem sind wir bei der PLASUS GmbH weiterhin für unsere Kunden erreichbar. Das Büro ist jeden Tag mit einer Minimalmannschaft besetzt und alle anderen Mitarbeiter sind per Mail im Homeoffice erreichbar. Die Produktion läuft etwas verlangsamt weiter, alle Liefertermine können aber eingehalten werden.

Kundentermine werden bis zur Aufhebung der Beschränkungen für Zusammenkünfte nicht wahrgenommen.

PLASUS GmbH, Tel.: +49 8233 7353780, Mail: service@plasus.de


28. Januar 2020

ICCG13 Konferenz wurde abgesagt !

Vorstellung des neuen EMICON Schichtmessmoduls auf der ICCG 13 in Braunschweig +++ Canceled +++

Auf der diesjährigen ICCG 13 Konferenz in Braunschweig stellen wir unsere neueste Entwicklung - das EMICON Schichtmessmodul - für die Prozesskontrolle von Beschichtungsprozessen vor.

Im Konferenz-Beitrag Combined In-situ Plasma Process and Layer Control for Production Processes werden wir das neue Modul vorstellen und verschiedene Anwendungsbeispiele diskutieren.

Auf der begleitenden Industrieausstellung vom 23. bis 25. März 2020 in der Stadthalle Braunschweig zeigen wir auf dem Stand Nr. C15 unsere neuesten Produkte und diskutieren gerne mit Ihnen deren Einsatzmöglichkeiten an Ihrer Anwendung.

Mehr >>

14.11.2019

Neueste Entwicklungen zur Kontrolle von reaktiven Sputterprozessen auf der RSD 2019 in Braunschweig

Auf der RSD 2019 Konferenz am Fraunhofer IST in Braunschweig stellen wir unsere neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle von reaktiven Sputterprozessen vor.

Im Konferenz-Beitrag Novel control technique for reactive HIPIMS processes to secure production stability over a target lifetime wird Dr. Thomas Schütte eine neue Methode für die Prozesskontrolle von HIPIMS-Anwendungen vorstellen und diskutieren.

Auf der begleitenden Industrieausstellung zeigen wir auf dem Stand Nr. 1 unsere neuesten Produkte und diskutieren gerne mit Ihnen deren Einsatzmöglichkeiten an Ihrer Anwendung.

Mehr >>

12.11.2019

EFDS Workshop - Diagnostik von Prozessplamen

Wir laden Sie herzlich ein, am EFDS Workshop Diagnostik an Prozessplasmen - Möglichkeiten, Grenzen und Anwendungen am 03. Dezember 2019 am Fraunhofer FEP in Dresden teilzunehmen.

Wir würden uns freuen, mit Ihnen und zahlreichen Experten über folgende Themen zu diskutieren: Was passiert eigentlich während der Beschichtung im Plasma? Sind die Bedingungen für meinen Prozess optimal? Muss ich die Parameter nachsteuern? Wird das erwartete Ergebnis erreicht?

Weitere Informationen und die Anmeldung finden Sie hier.

Mehr >>

24. September 2018

Neuartige Regelmethode für reaktive Puls- und HIPIMS-Prozesse

Mit der neuesten Entwicklung in Sensortechnologie von PLASUS eröffnen sich neue Möglichkeiten zur Regelung der Plasmaparameter in reaktiven Puls- und HIPIMS-Plasmen.

Das neue EMICON SA Puls und HIPIMS Modul kombiniert das spektroskopische Plasmamonitoring mit der Messung von Pulsspannung und Pulsstrom in einem einzigen Setup zur fortgeschrittenen Prozesskontrolle von reaktiven dichten Prozessplasmen.

Mehr >>

18. August 2018

Vorstellung des neuen EMICON Puls und HIPIMS Moduls auf der PSE 2018

Auf der PSE 2018 Konferenz in Garmisch-Partenkirchen stellt PLASUS seine neueste Entwicklung für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor:

Das neue EMICON Puls und HIPIMS Modul kombiniert das spektroskopische Plasmamonitoring mit der Messung von Pulsspannung und Pulsstrom in einem einzigen Setup zur fortgeschrittenen Prozesskontrolle von reaktiven dichten Prozessplasmen. Erfahren Sie mehr über diese neue und hochinteressante Methode in einem Vortrag in der HiPIMS II Session.

Wir freuen uns auch auf Ihren Besuch auf unserem Gemeinschaftsstand Nr. 34 mit unseren Technologiepartnern in der Industrieausstellung der PSE 2018 Konferenz am 18. und 19. September.
Am Mittwoch, den 19. September, ist der freie Eintritt auch für Nicht-Tagungsteilnehmer möglich!

Mehr >>

10. November 2016

Angstrom Sciences wird Vertriebspartner für Nordamerika

Seit dem 1. November 2016 ist Angstrom Sciences, Inc exklusiver Vertriebspartner von PLASUS Produkten in Nordamerika.
Angstrom Sciences, Inc, mit Hauptsitz in Pittsburgh, PA, USA ist führender Hersteller von Magnetron-Sputtertechnologie. Die Plasmamonitor- und Prozesskontrollsysteme von PLASUS ergänzen in hervorragender Weise die Produktpalette von Angstrom Sciences.
Angstrom Sciences hat ein dichtes Vertriebsnetz in Nordamerika und kann Kunden jetzt auch kompetent bei der Plasmanalyse und der Prozesskontrolle zur Seite stehen.

Mehr >>

08. August 2016

robeko ist neuer Vertriebs- und Kooperationspartner von PLASUS in Europa

Die robeko GmbH & Co. KG vertreibt seit Januar 2016 die Produkte von PLASUS in Deutschland, Benelux und Frankreich.
robeko ist führender Hersteller und Lieferant von Sputtertargets und Prozesstechnik höchster Qualitiät für Dünnschichtprozesse insbesondere für Sputterporzesse. Die Plasmamonitor- und Prozesskontrollsysteme von PLASUS ergänzen in exzellenter Weise die Produktpalette von robeko.
Neben dem Vertrieb der Produkte ist eine enge Partnerschaft bei der Entwicklung innovativer Plasmaprozesse für Sputtern und PECVD geplant. Hierzu stellt robeko seine Fachkompetenz und Anlagentechnik zur Verfügung.

Mehr >>

23. Juni 2016

PLASUS feiert 20-jähriges Bestehen mit Jubiläumsfeier!

Seit 1996 entwickelt, produziert und vertreibt PLASUS innovative und anwendungsorientierte Plasmamonitor- und Prozesskontrollsysteme. Die Anwendungspalette reicht von der Qualitätskontrolle von PECVD-Plasmen über die aktive Prozessregelung in reaktiven Sputterprozessen und der Endpunktdetektion in Ätzprozessen bis hin zur Prozessüberwachung von atmosphärischen Plasmen.
Am 23. Juni 2016 feierte PLASUS mit zahlreichen Gästen aus dem In- und Ausland sein 20-jähriges Firmenjubiläum mit einem Festakt und anschließender Feier in den Räumlichkeiten in Mering.

Mehr >>

21. September 2015

Stand-alone EMICON SA System für industrielle Produktionslinien

Unsere neueste Entwicklung für das spektroskopischen Plasmamonitoring - das EMICON SA System - erweitert unsere weltweit führende Plasmamonitorserie um die entscheidenden Funktionen für den Einsatz in industriellen Produktionslinien:

- Integrierte Prozessoreinheit für den Stand-Alone Betrieb
- Mehrkanalige Datenerfassung von bis zu acht Spektrometermodulen
- Analogeingänge zur Erfassung von Sensorsignalen
- Weltweit schnellster Datenerfassungszyklus bis zu 1 ms
- Einfache Integration in industrielle Prozessanlagen über gängige Kommunikationsstandards: LAN, Profibus, I/Os, ...

Das EMICON SA System kombiniert die herausragenden Vorteile eines spektroskopischen Plasmamonitorsystems für Qualitätssicherung, Prozesskontrolle und Endpunktdetektion mit den Anforderungen zur Intergration in Produktionslinien.

Mehr >>

22. Mai 2015

PLASUS GmbH bezieht neue Räumlichkeiten

Die PLASUS GmbH ist im Mai in neue und größere Räumlichkeiten in Mering (bei Augsburg) gezogen. Sie finden uns jetzt unter folgender Postadresse:

PLASUS GmbH
Lechstraße 9
D-86415 Mering


Die Telefonnummern und E-Mail-Adressen sind unverändert. Bitte aktualisieren Sie Ihre Kontaktdaten.

Mehr >>

09. Februar 2015

PLASUS firmiert zur GmbH

Zum 15.01.2015 wurde aus PLASUS die PLASUS GmbH.

Mit diesem Schritt stellt sich PLASUS optimal für weitere erfolgreiche Jahre auf und schafft beste Voraussetzungen für gesundes Wachstum, neue Produkte und zur Umsetzung strategischer Ziele.

Unseren Kunden stehen wir wie gehabt mit den gleichen Ansprechpartnern und kompetentem Service zur Verfügung - nur einige Verwaltungsdaten haben sich geändert. Details dazu finden Sie hier.

Mehr >>

17. Mai 2013

EMICON System mit industriellen Schnittstellen PROFIBUS und LAN

Alle EMICON Modelle wurden um die industriellen Schnittstellen PROFIBUS und LAN erweitert und können damit jetzt einfach und problemlos in Industrieapplikationen integriert werden.

Mit der PROFIBUS und LAN Schnittstelle kann die übergeordnete Anlagensteuerung die Kontrolle über das EMICON System übernehmen und die Systemparameter und Messdaten kontinuierlich abfragen.

Mehr >>

19. März 2012

In-Vakuum Kollimatoroptik in SLIM-Ausführung

Mit den neuen SLIM-Vakuumoptiken wurden die Außenabmessungen unserer bisherigen Standardoptiken erheblich reduziert - allerdings ohne den Lichtdurchsatz zu verringern.

Damit kann jetzt auch in Beschichtungsanlagen mit engen Einbauverhältnissen eine optimale Lichtintensität gemessen werden.

Mehr >>

11. Januar 2011

Neuartiger Beschichtungsschutz für Sichtfenster

Der neu entwickelte Beschichtungsschutz für beliebige Sichtfenster ermöglicht jetzt Einsatz von Ex-Vakuumoptiken auch an beschichtenden Anwendungen.

Der Beschichtungsschutz ist eine Kapillarkassette (honey comb), die z.B. genau in einen KF40-Vakuumflansch passt. Die Montage des Beschichtungsschutzes an der Innenseite des Sichtfenster ist äußerst einfach und sicher, da der KF40 Zentrier- und Dichtring in der Kapillarkassette integriert ist.

Mehr >>

15. Januar 2010

Neues SpecLine Support Center in Asien

Wir freuen uns die Eröffung unseres neuen SpecLine Support Center in Taiwan bekannt geben zu können. Das Support Center steht unseren asiatischen Kunden ab sofort kompetent für alle Fragen rund um unsere spektroskopische Analysesoftware zur Verfügung:

Applied Optivac Technology, Inc.
11F, 286-10, Sec.1, Nan-Kan Road
Lu-Chu Hsiang, Taoyuan 33859
Taiwan, R.O.C.
Phone: +886-3-3120505
Fax: +886-3-3220505


Um die Qualität unserer SpecLine Software in Zukunft zu bündeln und sichern, wird SpecLine in Asien ab dem 01.01.2010 nur noch über unser SpecLine Support Center in Taiwan erhältlich sein.

Mehr >>

05. Januar 2009

Neue EMICON MC Serie

Als Weiterentwicklung unserer Plasmamonitorsysteme sind ab sofort die neuen EMICON MC Systeme verfügbar. Diese neuen Systeme zeichnen sich unter anderem durch einen erweiterten Spektralbereich von 200-1100 nm und durch eine schnellere Messfrequenz bei mehrkanaligen Systemen durch echtes Multitasking aus. Der gesamte Datentransfer wird jetzt über eine USB 2.0 Schnittstelle abgewickelt, sodass auch mit einem Notebook Steuerungs- und Regelungsaufgaben realisiert werden können. Die neue EMICON 3.1 Software bietet umfangreiche neue und erweiterte Funktionen für das Plasmamonitoring, für die Spektrenauswertung und für die Prozessregelung.

Mehr >>