PLASUS hat seine bekannte EMICON-Serie zur Plasmaüberwachung und Prozesssteuerung um eine innovative Entwicklung für HIPIMS-Anwendungen und gepulste Plasmaprozesse erweitert. Das EMICON FS System ist nun bereit für die Markteinführung.
Für schnelle spektroskopische Messungen ist es den Entwicklern bei PLASUS gelungen, die Integrationszeit der Spektraldatenerfassung deutlich auf Werte zu reduzieren, die weit unter der Pulslänge typischer HIPIMS-Prozesse liegen.
Dies führt zu einer noch nie dagewesenen Zeitauflösung der Spektraldaten, die einen tieferen Einblick in die Entwicklung der Plasmazusammensetzung während des Pulses ermöglicht. Die folgenden Daten zeigen zum Beispiel, wie sich die Argonkonzentration fast unmittelbar nach dem Einsetzen der Spannung aufbaut, während die metallischen Spezies mit einer Verzögerung von 20 µs folgen. Man beachte, dass es keinen Unterschied zwischen dem Zeitverhalten von atomaren Ti und Ti+ Ionen gibt.
Eine solche Zeitauflösung war bisher nur mit spektroskopischen High-End-Geräten möglich. Im Gegensatz zu diesen Geräten ermöglicht das EMICON FS System eine kontinuierliche Überwachung im 24/7-Betrieb. Die untenstehende Aufnahme zeigt die Pulsfolge des Übergangs eines HIPIMS-Prozesses vom reaktiven zum metallischen Modus. Nicht nur bei F&E-Anwendungen, sondern auch bei Produktionsmaschinen können so wertvolle Prozessdetails aufgedeckt werden.
Wie alle anderen EMICON Systeme kann auch das EMICON FS System mit einer Vielzahl von industriellen Schnittstellen zur Integration in bestehende Produktionsmaschinen ausgestattet werden. Bisher unerreichte, anspruchsvolle Prozesssteuerungen wie z.B. synchronisiertes Substrat-Biasing in Echtzeit können in einem sehr attraktiven Preisrahmen realisiert werden.
