EMICON FS SYSTEM
PROZESSKONTROLLE FÜR HIPIMS UND GEPULSTE ANWENDUNGEN
Das EMICON FS System ist ein schnelles spektroskopisches Plasmamonitorsystem, das eine kontinuierliche pulsaufgelöste Prozessüberwachung und -steuerung in gepulsten Plasmaanwendungen wie HIPIMS oder Pulsed-DC ermöglicht. Mit seiner beispiellosen Zeitauflösung setzt das EMICON FS System neue und weltweit einzigartige Standards in der industriellen Prozesskontrolle.
EMICON SA SYSTEM
PROZESSKONTROLLE FÜR DIE PRODUKTION
Die EMICON SA Systeme sind die erste Wahl für eine ganzheitliche Prozessregelung und Qualitätssicherung von Plasmaprozessen in Industrieanlagen und Produktionslinien. Mit der einzigartigen Erfassung und Kombination aller wichtigen Prozessdaten in einem System in Echtzeit sind die EMICON SA Systeme der weltweite Maßstab für erfolgreiche Prozesskontrolle.
EMICON LC MODUL
DÜNNSCHICHTKONTROLLE
Das EMICON LC Module ist eine ideale Erweiterung der EMICON SA System zur in-situ Echtzeitmessung von Transmission, Reflexion, Absorption, Farbe oder Schichtdicke am Werkstück während des Plasmaprozesses.
EMICON HR SYSTEM
HOCHAUFLÖSENDE PLASMAANALYSE
Das EMICON HR System ist ein spektral hochauflösendes Plasmamonitorsystem und eignet sich besonders für die detaillierte spektrale Plasmaanalyse und zum Plasmamonitoring sowie zur Qualitätssicherung und zur Prozessregelung.
OPTIKKOMPONENTEN
ROBUSTE UND LANGLEBIGE SENSOREN
Optikkomponenten sind die Verbindung zwischen dem Anwendungsprozess und dem Detektionssystem: Alle PLASUS Komponenten sind optimiert, ein Maximum an Lichtintensität zu übertragen bei gleichzeitiger Flexibilität und Langlebigkeit in industriellen Umgebungen.