Am 21. und 22. Januar 2025 veranstalten PLASUS und das Fraunhofer IST gemeinsam einen Industrie-Workshop zum Thema „Process Control in Production Lines – Latest Developments and Future Trends“. Der Workshop umfasst eine Reihe von Vorträgen, die sich mit dem aktuellen Stand und zukünftigen Trends der Prozesssteuerung in der Produktion befassen. Eine spezielle Sitzung ist dem…

PLASUS stellt seine neueste Entwicklung für HIPIMS Anwendungen und gepulste Plasmaprozesse vor: Die beispiellose Zeitauflösung des neuen EMICON FS Systems setzt bahnbrechende und weltweit einzigartige Standards in der industriellen Prozesskontrolle.

Bob Rovnanik und sein Team von Angstrom Scienes, Inc. wurden als Vertriebspartner des Jahres 2022 für ihre herausragenden Leistungen und ihr Engagement für den Vertrieb von PLASUS Produkten in Nordamerika ausgezeichnet.

Mit der runderneuerten SPECLINE 3 Software setzt PLASUS neue Maßstäbe in der Analyse und Identifizierung von Spekraldaten. Die neue SPECLINE 3 Version zeigt eine komplett neue, moderne und intuitive Nutzeroberfläche. Überzeugen Sie sich selbst von den einmaligen Featuren der neuen SPECLINE 3 Features und fordern Sie die kostenlose Demoversion an.

Am 23. September 2021 feierte PLASUS sein 25-jähriges Firmenjubiläum mit einer Hybrid-Veranstaltung. Neben den 30 Gästen vor Ort verfolgten über 70 Online-Gäste aus Europa, Asien, Amerika und Australien die interessanten Vorträge und Beiträge.

Der neue Puls- und HIPIMS-Sensor des EMICON SA Systems erfasst die Pulsstrom- und Pulsspannungskurven und kombiniert die Auswertung der elektrischen Daten mit den Daten aus der spektroskopischen Plasmaüberwachungstechnik in einem einzigen System. Damit ist eine unabhängige Regelung von Ionisationsgrad und Reaktivgasfluss in reaktiven Puls- und HIPIMS-Prozessen jetzt möglich und öffnet die Tür zu vielen neuen Anwendungen…