Unternehmen

DAS UNTERNEHMEN

Die PLASUS GmbH ist ein weltweit führender Hersteller von spektroskopischen Plasmamonitor- und Prozesskontrollsystemen für jegliche Art von Plasmaprozessen in F&E und Industrie. Seit 1996 entwickelt, produziert und vertreibt PLASUS innovative und anwendungsorientierte Plasmamonitor- und Prozesskontrollsysteme. Die Anwendungen reichen von der Qualitätskontrolle von PECVD-Plasmen über die aktive Prozesskontrolle bei reaktiven Sputterprozessen und die Endpunktdetektion bei Ätzprozessen bis hin zur Prozessüberwachung von atmosphärischen Plasmen.

Der Firmengründer Dr. Thomas Schütte legte von Anbeginn besonderen Wert auf die konsequente Anwendung der spektroskopischen Messtechnik in einem schlüsselfertigen System für industrielle Plasmaprozesse. Das Ergebnis sind modernste Plasmamonitor- und Prozesssteuerungssysteme mit innovativen optischen Sensoren und einer umfassenden und dennoch einfach zu bedienenden Softwareoberfläche, die dem Anwender eine Vielzahl neuartiger Echtzeit-Messverfahren in der Plasmatechnik zur Verfügung stellt.

Das erfahrene Team von Ingenieuren und Wissenschaftlern entwickelt und konstruiert die PLASUS Messsysteme, oft in Zusammenarbeit mit renommierten Forschungsinstituten und führenden Industriekunden. Die Endfertigung erfolgt ausschließlich am Hauptgeschäftssitz in Mering, Deutschland, um die höchst möglichen Standards bei der Systemintegration und der Qualitätssicherung zu gewährleisten.

Das PLASUS Distributorennetzwerk besteht aus erfahrenen Vertriebs- und Supportpartnern in Europa und Nordamerika und dem langjährigen und starken asiatischen Supportzentrum in Taiwan sowie lokalen Vertretungen in Japan, China und Korea.

Die Softwareentwicklung ist eine der Kernkompetenzen von PLASUS. Alle Softwareprodukte werden im eigenen Haus entwickelt und kodiert, was eine nahtlose Anbindung an die Hardwarekomponenten garantiert und die Systemleistung maximiert. Auch Kunden- und Marktanforderungen können so flexibel umgesetzt werden.

Die Mitarbeiter von PLASUS werden auch in Zukunft mit großem Enthusiasmus an der Weiter- und Neuentwicklung von spektroskopischen Plasmamonitor- und Prozesskontrollsystemen arbeiten und den Anwendern mit Rat und Tat bei Fragen bestmöglich und zeitnah zur Seite stehen.

MEILENSTEINE DER FIRMENGESCHICHTE

2021

25 Jahre PLASUS und innovative Produkte für die spektroskopische Prozessüberwachung und -steuerung.
Verkauf des 450sten EMICON Systems mit der 850sten Spektrometereinheit.

2020

Erweiterung der Produktpalette durch das Schichtkontrollsystem und -modul EMICON LC basierend auf spektroskopischen Reflexions- und Transmissionsmessungen. Hiermit können Schichtparameter wie Reflexion, Transmission, Dicke, Farbwerte etc. in Echtzeit im Prozess zu überwacht werden.

2018

Einführung des EMICON SA HIPIMS und PULS Moduls mit einer weltweit neuartigen Prozesskontrollmethode für gespulste hochionisierte reaktive Plasmaprozesse, z.B. HIPIMS Anwendungen.

2017

Angstrom Sciences Inc. in Duquesne, Pennsylvania, USA wird offizieller Vertriebspartner für Nordamerika.

2016

Die robeko GmbH & Co.KG und die PLASUS GmbH vereinbaren eine strategische Technologie- und Vertriebspartnerschaft. robeko übernimmt den Vertrieb von PLASUS Produkten an Industriekunden in Europa.

2015

PLASUS firmiert zur GmbH und zieht in neue und größere Räumlichkeiten nach Mering bei Augsburg.

2014

Einführung des Stand-Alone Systems PLASUS EMICON SA für den optimalen Einsatz in Produktionsanlagen. Weltweit erstes schlüsselfertiges mehrkanaliges spektroskopisches Plasmamonitor- und Prozesskontrollsystem mit eigener Prozessoreinheit für die einfache und schnelle Integration in Plasmaprozessanlagen.

2012

Verkauf des weltweit 100sten EMICON Systems mit über 250 Spektrometereinheiten an Industrie und F&E.

2011

Erweiterung der Sensorkomponenten um die In-Vakuum SLIM Sensoren mit schlankerem Formfaktor bei gleichem Lichtdurchsatz.

2009

Einführung des hochauflösenden PLASUS EMICON HR Systems mit einer fast 10-fach besseren spektralen Auflösung als die EMICON MC Systeme. Mit diesem System konnte die Lücke zwischen wissenschaftlicher Analyse bei gleichzeitigem spektralen Plasmamonitoring und Prozesskontrolle geschlossen werden. Dieses System wird vorwiegend in der Vorabentwicklung von Anlagen und Prozessen eingesetzt.

2008

Markteinführung des modularisierten PLASUS EMICON MC Systems mit bis zu acht Spektrometermodulen. Die Anzahl der Spektrometermodule und der Steuerein- und -ausgänge kann kundenspezifisch implementiert werden und auch später erweitert werden. Die Modularisierung und die Bereitstellung von Industrieschnittstellen erleichtern den anwendungsspezifischen Einsatz in Industrieprozessen.

2007

Etablierung und Ausbau von Vertriebspartnerschaften in Japan, Korea, Taiwan und China.

2006

Erstes mehrkanaliges Plasmamonitorsystem PLASUS EmiCon C mit 3 simultan messenden Spektrometermodulen. Mit dieser Entwicklung ist es erstmals möglich mehrere Messpositionen gleichzeitig spektral zu vermessen und somit auch bei großflächigen Prozessen die Vorteile des spektroskopischen Plasmamonitoring und Prozesskontrolle zu nutzen.

2005

Applied Optivac Technology Inc. (AOT) in Taiwan wird offizielles Vertriebs- und Servicecenter für den asiatischen Raum.

2004

Markteinführung des Plasmamonitorsystems PLASUS EmiCon C. Mit einer Hardware- und Softwareerweiterung von analogen und digitalen Ein- und Ausgängen konnte jetzt auch eine Systemintegration mit aktiver Prozessteuerung, z.B. bei Sputter- oder Ätzprozessen, realisiert werden. Gegenüber herkömmlichen, nicht-spektroskopischen PEM Systemen konnte damit erstmalig unter Produktionsbedingungen z.B. auf Linienverhältnisse und ohne überlagerte Störlinien geregelt werden.

2003

Verkaufsstart der neu entwickelten In-Vakuum Sensoren mit Beschichtungsschutz und optischen Vakuumdurchführungen für KF und CF Flansche. Diese Komponenten sind speziell für den Einsatz in industriellen Anlagen entwickelt mit optimalem Lichtdurchsatz vom UV- bis zum NIR-Bereich und einfacher Wartung.

2002

Markteinführung des Plasmamonitorsystems PLASUS EmiCon M mit einem miniaturisiertem Spektrometermodul mit fixem Gitter und CCD-Array zur simultanen Erfassung eines Spektralbereiches von fast 700 nm (200-900 nm). Dieses kompakte und robuste System legte den Grundstein für die bis heute erfolgreiche und industrietaugliche EMICON Serie.

1999

Auslieferung des ersten eigenen spektroskopischen Plasmamonitorsystems PLASUS Monitor. Vorwiegend für Entwicklungsaufgaben gedacht, bestand dieses aus einem Spektrometer mit 3 Wechselgittern und einem CCD-Array, wodurch unterschiedliche spektrale Auflösungen erzielt wurden und ein Spektralbereich von ca. 100 nm simultan gemessen werden konnte. Die PLASUS Monitor Software erlaubt eine vollautomatische Ansteuerung.

1998

Veröffentlichung der ersten Version der PLASUS SpecLine Software. SpecLine ist eine Analysesoftware für spektroskopische Daten mit einer umfassenden Liniendatenbank für Atome, Ionen und Moleküle. Auch mit der aktuellen Version ist die SpecLine Software immer noch weltweit einzigartig und erfreut sich großer Beliebtheit auf der ganzen Welt.

1996

Gründung von PLASUS durch Dr.-Ing. Thomas Schütte. Beratung zum Plasmamonitoring und Analyse von spektroskopischen Messungen an Plasmaprozessen. Kompetenter, lösungsorientierter Kundenservice mit schnellem Feedback ist bis heute ein Markenzeichen von PLASUS.