Besuchen Sie uns auf der SVC TechCon 2024!

Besuchen Sie uns auf der SVC TechCon 2024 in Chicago, IL, USA vom 4. bis 9. Mai 2024.

Auf der SVC TechCon 2024 Konferenz stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor:

Das neue EMICON FS SYSTEM
Das EMICON LC SYSTEM
Kombiniertes in-situ Prozessmonitoring von Plasma und Schicht
Die SPECLINE 3 Software

Im Rahmen des technischen Programms präsentieren unsere Experten in drei Vorträgen die aktuellen Entwicklungen:

Continuous pulse-resolved spectroscopic and electrical plasma process control in HIPIMS applications
HP13 – HIPIMS High Power Impulse Magnetron Sputtering, Dienstag, 7. Mai 2024, 10:10 Uhr
Dr. Thomas Schütte
Improved Process Control by Using In-Situ Data to Determine Refractive Indices of Thin Films
PC13 – Process Monitoring, Control and Automation, Dienstag, 7. Mai 2024, 12:30 Uhr
Dr. Jan-Peter Urbach
The EMICON System – Comprehensive Process Control combining Complementary Diagnostic Techniques in a Single Unit
EIS4 – Exhibitor Innovator Showcase, Dienstag, 7. Mai 2024, 10:50 Uhr
Dr. Thomas Schütte

Auf der begleitenden Industrieausstellung am 07. und 8. Mai sind wir auf unserem Ausstellungsstand Nr. 911 für Sie da. Sie sind herzlich eingeladen vorbeizuschauen und sich über weitere Details zu informieren. Gerne diskutieren wir mit Ihnen Einsatzmöglichkeiten unserer Produkte in Ihren Anwendungen. Der Zutritt zur Industrieausstellung ist kostenfrei!

Das vollständige Programm und die Registrierung finden Sie auf der Webseite der SVC TechCon 2024.

Wir freuen uns sehr, Sie dieses Jahr in Chicago begrüßen zu können!