Treffen Sie die Experten von PLASUS in 2023 auf folgenden Konferenzen und Ausstellungen:
Auf der SVC TechCon 2023 Konferenz vom 06.05. bis 11.05.2023 in Washington, D.C. stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In zwei Vorträgen von unseren Experten und auf unserem Ausstellungsstand Nr. 619 erfahren Sie dazu mehr.
Auf der AVS 68 International Symposium & Exhibition vom 6. bis 11.11.2022 in Pittsburgh, PA, USA stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Besuchen Sie uns auf dem Stand Nr. 822 von Angstrom Sciences und erfahren Sie dazu mehr.
Auf der 15. OPTATEC Fachmesse vom 18. bis 20.10.2022 in Frankfurt a.M. stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Besuchen Sie uns auf dem Stand Nr. E120 von unserem Partner robeko und erfahren Sie dazu mehr.
Auf der PSE 2022 Konferenz vom 12. bis 15.09.2022 in Erfurt stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Besuchen Sie uns auf dem Gemeinschaftsstand Nr. 29 und erfahren Sie dazu mehr.
Auf der SVC TechCon 2022 Konferenz vom 30.04. bis 05.05.2022 in Long Beach, CA stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In zwei Vorträgen von unseren Experten und auf unserem Aussttellungsstand Nr. 531 erfahren Sie dazu mehr.
Treffen Sie uns auf der HiPIMS Today 2022 Virtual vom 25. Januar bis 27. Januar 2022. Dieser Workshop befasst sich mit aktuellen Entwicklungen zum Hochleistungsimpuls-Magnetronsputterns (HiPIMS). PLASUS wird seine neuesten Produktentwicklungen für HiPIMS-Anwendungen vorstellen.
Auf der V2021 Vakuum & Plasma stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Zusammen mit unseren Technologiepartnern zeigen wir auf unserem Gemeinschaftsstand Nr. 19 die neusten Highlights zu unseren Produkten.
Besuchen Sie uns auf der SVC TechCon 2021 Virtual vom 3. Mai bis 7. Mai 2021. uf der SVC TechCon 2021 Virtual Konferenz, stellt PLASUS seine neueste Entwicklung für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Wir laden Sie herzlich zu den Vorträgen aus unserem Hause ein.
