Auf der PSE 2022 Konferenz vom 12. bis 15.09.2022 in Erfurt stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Besuchen Sie uns auf dem Gemeinschaftsstand Nr. 29 und erfahren Sie dazu mehr.
Ausstellungen
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Auf der SVC TechCon 2022 Konferenz vom 30.04. bis 05.05.2022 in Long Beach, CA stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In zwei Vorträgen von unseren Experten und auf unserem Aussttellungsstand Nr. 531 erfahren Sie dazu mehr.
Treffen Sie uns auf der HiPIMS Today 2022 Virtual vom 25. Januar bis 27. Januar 2022. Dieser Workshop befasst sich mit aktuellen Entwicklungen zum Hochleistungsimpuls-Magnetronsputterns (HiPIMS). PLASUS wird seine neuesten Produktentwicklungen für HiPIMS-Anwendungen vorstellen.
Auf der V2021 Vakuum & Plasma stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Zusammen mit unseren Technologiepartnern zeigen wir auf unserem Gemeinschaftsstand Nr. 19 die neusten Highlights zu unseren Produkten.
Besuchen Sie uns auf der SVC TechCon 2021 Virtual vom 3. Mai bis 7. Mai 2021. uf der SVC TechCon 2021 Virtual Konferenz, stellt PLASUS seine neueste Entwicklung für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Wir laden Sie herzlich zu den Vorträgen aus unserem Hause ein.