Ausstellungen

Treffen Sie die Experten von PLASUS in 2024 auf folgenden Konferenzen und Ausstellungen:

• HIPIMS Today 2024, Online
• SVC TechCon 2024, Chicago, USA
• 13^th ICMCTF 2024, San Diego, USA
• ICCG 2024, Dresden
• ISSP 2024, Kyoto, Japan
• PSE 2024, Erfurt

Im Rahmen der internationalen Konferenz für Reactive Sputtering Deposition RSD 2023 stellt PLASUS seine aktuellen Entwicklungen für die Prozessüberwachung und Prozesskontrolle von Sputteranwendungen vor.

Auf der V2023 Vacuum & Plasma vom 18.-21. September 2023 stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Zusammen mit unseren Technologiepartnern zeigen wir auf unserem Gemeinschaftsstand Nr. C1 die neusten Highlights zu unseren Produkten.

Treffen Sie die Experten von PLASUS in 2023 auf folgenden Konferenzen und Ausstellungen:

• 2023 International Forum of High-Density Plasma Coatings and Process Control, Taiwan
• HIPIMS Today 2023, Online
• Plasma Technology Conference 2023, Bochum
• SVC TechCon 2023, USA
• 13^th HIPIMS Conference 2023, Niederlande
• V2023 - Vakuum & Plasma, Dresden

Auf der SVC TechCon 2023 Konferenz vom 06.05. bis 11.05.2023 in Washington, D.C. stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In zwei Vorträgen von unseren Experten und auf unserem Ausstellungsstand Nr. 619 erfahren Sie dazu mehr.

Auf der AVS 68 International Symposium & Exhibition vom 6. bis 11.11.2022 in Pittsburgh, PA, USA stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Besuchen Sie uns auf dem Stand Nr. 822 von Angstrom Sciences und erfahren Sie dazu mehr.

Auf der 15. OPTATEC Fachmesse vom 18. bis 20.10.2022 in Frankfurt a.M. stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Besuchen Sie uns auf dem Stand Nr. E120 von unserem Partner robeko und erfahren Sie dazu mehr.

Auf der PSE 2022 Konferenz vom 12. bis 15.09.2022 in Erfurt stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Besuchen Sie uns auf dem Gemeinschaftsstand Nr. 29 und erfahren Sie dazu mehr.

Auf der SVC TechCon 2022 Konferenz vom 30.04. bis 05.05.2022 in Long Beach, CA stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In zwei Vorträgen von unseren Experten und auf unserem Aussttellungsstand Nr. 531 erfahren Sie dazu mehr.

Treffen Sie uns auf der HiPIMS Today 2022 Virtual vom 25. Januar bis 27. Januar 2022. Dieser Workshop befasst sich mit aktuellen Entwicklungen zum Hochleistungsimpuls-Magnetronsputterns (HiPIMS). PLASUS wird seine neuesten Produktentwicklungen für HiPIMS-Anwendungen vorstellen.