Am 21. und 22. Januar 2025 freuten sich PLASUS und das Fraunhofer IST, mehr als 60 Teilnehmer zu einem intensiven und inspirierenden Workshop zum Thema "Prozesskontrolle in Produktionslinien - Neueste Entwicklungen und zukünftige Trends" begrüßen zu dürfen.
Thomas Schütte
Auf der diesjährigen Plasma Surface Engineering PSE 2024 Konferenz vom 02. bis 05.09.2024 in Erfurt stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Besuchen Sie uns auf dem Gemeinschaftsstand Nr. 29 und erfahren Sie dazu mehr.
Auf der ISSP 2024 Konferenz vom 02.07. bis 05.07.2024 in Kyoto, Japan stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In einem Vortrag von unseren Experten und auf unserem Ausstellungsstand im Atrium des Kyoto Research Parks erfahren Sie dazu mehr.
Auf der ICMCTF 2024 Konferenz vom 19.05. bis 24.05.2024 in San Diego, CA, USA stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In einem Vortrag von unseren Experten und auf unserem Ausstellungsstand Nr. 419 erfahren Sie dazu mehr.
Auf der SVC TechCon 2024 Konferenz vom 04.05. bis 09.05.2024 in Chicago, IL, USA stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In drei Vorträgen von unseren Experten und auf unserem Ausstellungsstand Nr. 911 erfahren Sie dazu mehr.
PLASUS stellt seine neueste Entwicklung für HIPIMS Anwendungen und gepulste Plasmaprozesse vor: Die beispiellose Zeitauflösung des neuen EMICON FS Systems setzt bahnbrechende und weltweit einzigartige Standards in der industriellen Prozesskontrolle.
Treffen Sie die Experten von PLASUS in 2024 auf folgenden Konferenzen und Ausstellungen:
- HIPIMS Today 2024, Online
- SVC TechCon 2024, Chicago, USA
- 13th ICMCTF 2024, San Diego, USA
- ICCG 2024, Dresden
- ISSP 2024, Kyoto, Japan
- PSE 2024, Erfurt
Im Rahmen der internationalen Konferenz für Reactive Sputtering Deposition RSD 2023 stellt PLASUS seine aktuellen Entwicklungen für die Prozessüberwachung und Prozesskontrolle von Sputteranwendungen vor.
Auf der V2023 Vacuum & Plasma vom 18.-21. September 2023 stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Zusammen mit unseren Technologiepartnern zeigen wir auf unserem Gemeinschaftsstand Nr. C1 die neusten Highlights zu unseren Produkten.