Thomas Schütte
10 Beiträge
Auf der SVC TechCon 2022 Konferenz vom 30.04. bis 05.05.2022 in Long Beach, CA stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In zwei Vorträgen von unseren Experten und auf unserem Aussttellungsstand Nr. 531 erfahren Sie dazu mehr.
Mit der runderneuerten SPECLINE 3 Software setzt PLASUS neue Maßstäbe in der Analyse und Identifizierung von Spekraldaten. Die neue SPECLINE 3 Version zeigt eine komplett neue, moderne und intuitive Nutzeroberfläche. Überzeugen Sie sich selbst von den einmaligen Featuren der neuen SPECLINE 3 Features und fordern Sie die kostenlose Demoversion an.
Treffen Sie uns auf der HiPIMS Today 2022 Virtual vom 25. Januar bis 27. Januar 2022. Dieser Workshop befasst sich mit aktuellen Entwicklungen zum Hochleistungsimpuls-Magnetronsputterns (HiPIMS). PLASUS wird seine neuesten Produktentwicklungen für HiPIMS-Anwendungen vorstellen.
Auf der V2021 Vakuum & Plasma stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Zusammen mit unseren Technologiepartnern zeigen wir auf unserem Gemeinschaftsstand Nr. 19 die neusten Highlights zu unseren Produkten.
Am 23. September 2021 feierte PLASUS sein 25-jähriges Firmenjubiläum mit einer Hybrid-Veranstaltung. Neben den 30 Gästen vor Ort verfolgten über 70 Online-Gäste aus Europa, Asien, Amerika und Australien die interessanten Vorträge und Beiträge.
Besuchen Sie uns auf der SVC TechCon 2021 Virtual vom 3. Mai bis 7. Mai 2021. uf der SVC TechCon 2021 Virtual Konferenz, stellt PLASUS seine neueste Entwicklung für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Wir laden Sie herzlich zu den Vorträgen aus unserem Hause ein.
Der neue Puls- und HIPIMS-Sensor des EMICON SA Systems erfasst die Pulsstrom- und Pulsspannungskurven und kombiniert die Auswertung der elektrischen Daten mit den Daten aus der spektroskopischen Plasmaüberwachungstechnik in einem einzigen System. Damit ist eine unabhängige Regelung von Ionisationsgrad und Reaktivgasfluss in reaktiven Puls- und HIPIMS-Prozessen jetzt möglich und öffnet die Tür zu vielen neuen Anwendungen in F&E und Industrie.