Auf der V2021 Vakuum & Plasma stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Zusammen mit unseren Technologiepartnern zeigen wir auf unserem Gemeinschaftsstand Nr. 19 die neusten Highlights zu unseren Produkten.
Thomas Schütte
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Am 23. September 2021 feierte PLASUS sein 25-jähriges Firmenjubiläum mit einer Hybrid-Veranstaltung. Neben den 30 Gästen vor Ort verfolgten über 70 Online-Gäste aus Europa, Asien, Amerika und Australien die interessanten Vorträge und Beiträge.
Zur Verstärkung unseres Teams für die Produktion und Entwicklung optischer Messsysteme suchen wir einen engagierten Elektroniker für Informations- und Systemtechnik (w/m/d).
Besuchen Sie uns auf der SVC TechCon 2021 Virtual vom 3. Mai bis 7. Mai 2021. uf der SVC TechCon 2021 Virtual Konferenz, stellt PLASUS seine neueste Entwicklung für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Wir laden Sie herzlich zu den Vorträgen aus unserem Hause ein.
Der neue Puls- und HIPIMS-Sensor des EMICON SA Systems erfasst die Pulsstrom- und Pulsspannungskurven und kombiniert die Auswertung der elektrischen Daten mit den Daten aus der spektroskopischen Plasmaüberwachungstechnik in einem einzigen System. Damit ist eine unabhängige Regelung von Ionisationsgrad und Reaktivgasfluss in reaktiven Puls- und HIPIMS-Prozessen jetzt möglich und öffnet die Tür zu vielen neuen Anwendungen in F&E und Industrie.