Verpassen Sie nicht die Gelegenheit die neuste Entwicklung von PLASUS für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle von HIPIMS Prozessen kennenzulernen: Das EMICON FS System mit dem einmaligen Feature der kontinuierlich pulsaufgelösten spektroskopischen Messung von HIPIMS Pulsen.
Thomas Schütte
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PLASUS präsentiert im Mai seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle auf zwei großen internationalen Konferenzen in den USA. Versäumen Sie nicht, die einzigartigen Eigenschaften unserer neuen EMICON Modelle zu entdecken, die von unseren Experten in Vorträgen und auf den begleitenden Ausstellungen vorgestellt werden.
Treffen Sie die Experten von PLASUS in 2025 auf folgenden Konferenzen und Ausstellungen:
- HIPIMS Today 2025, Online
- ICMCTF 2025, San Diego, USA
- SVC TechCon 2025, Nashville, USA
- HIPIMS 2025, Braunschweig
- V2025, Dresden
Am 21. und 22. Januar 2025 freuten sich PLASUS und das Fraunhofer IST, mehr als 60 Teilnehmer zu einem intensiven und inspirierenden Workshop zum Thema "Prozesskontrolle in Produktionslinien - Neueste Entwicklungen und zukünftige Trends" begrüßen zu dürfen.
Auf der diesjährigen Plasma Surface Engineering PSE 2024 Konferenz vom 02. bis 05.09.2024 in Erfurt stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. Besuchen Sie uns auf dem Gemeinschaftsstand Nr. 29 und erfahren Sie dazu mehr.
Auf der ISSP 2024 Konferenz vom 02.07. bis 05.07.2024 in Kyoto, Japan stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In einem Vortrag von unseren Experten und auf unserem Ausstellungsstand im Atrium des Kyoto Research Parks erfahren Sie dazu mehr.
Auf der ICMCTF 2024 Konferenz vom 19.05. bis 24.05.2024 in San Diego, CA, USA stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In einem Vortrag von unseren Experten und auf unserem Ausstellungsstand Nr. 419 erfahren Sie dazu mehr.
Auf der SVC TechCon 2024 Konferenz vom 04.05. bis 09.05.2024 in Chicago, IL, USA stellt PLASUS seine neuesten Entwicklungen für das Plasmamonitoring und die Prozesskontrolle vor. In drei Vorträgen von unseren Experten und auf unserem Ausstellungsstand Nr. 911 erfahren Sie dazu mehr.
PLASUS stellt seine neueste Entwicklung für HIPIMS Anwendungen und gepulste Plasmaprozesse vor: Die beispiellose Zeitauflösung des neuen EMICON FS Systems setzt bahnbrechende und weltweit einzigartige Standards in der industriellen Prozesskontrolle.